想必大家都知道，在全球的半导体芯片领域中，存在一个摩尔定律的概念，这是当初英特尔的创始人所提出来的。而在前段时间英伟达的高管也再次提及了摩尔定律的问题，于是摩尔定律这个问题再次进入到了大众的视线中。

当然了，不单纯是因为这个概念的问题。事实上，全球的半导体领域都面临着一个新的问题——随着以硅为基础的电子芯片在不断的发展几十年之后的现在，承载的能力早就逼近了物理理论的极限。说白了，要想打破这个摩尔定律那么只有换道“超车”，而光子芯片也被不少科技人士誉为是打破这个定律的关键途径之一。

值得兴奋的是，在近日有消息传来，我们国内首条“多材料、跨尺寸”的光子芯片生产线预计在2023年建成。

很多人大概不了解光子芯片，所谓的光子芯片和传统的电子芯片有所不同，光子芯片数据传输的载体是光子，相较于传统的电子芯片来说，运算速度以及传输的速率都要高不少，据有关数据佐证，这个差距在1000倍。同时，光子芯片还具备热量少，能耗低等优势。可以这么说，光子芯片的出现是芯片领域中另外的一个突破点，并且还大有盖过传统电子芯片的趋势。

而当下，在我们国内企业在集成电路上仍处于一个弥补短板的时刻，能够迎来光子芯片生产线的规模建成，从某种意义上来说，算是我们换道超车“成功”的开始，同时也意味着国产芯片迎来了一个新的突破。毕竟，从当下全球的芯片领域来说，虽说我们在逐步的突破，可是距离先进工艺制程还是有所差距。

就拿最简单的芯片代工来说，三星和台积电已经开始布局2nm，但是我们国内半导体的企业并没有涉及到这么先进的领域。再加上当下美又加深了在高性能芯片出货上的限制，要我们在这种困境重重，并且本身就有差距的情况下做到和国际大厂同样的先进水平，恐怕需要很多年。因此，基于这种因素我们才更加需要换个思路来发展半导体。显然，依靠现如今对光子芯片的市场预期来说，这是我们很好的一个发展途径。

可能说到这里，很多人会问一个关键的问题，那就是先进的电子芯片的制造是否需要先进光刻机？如果同样需要先进的光刻机，那么我们所谓的弯道超车似乎并没有太大的意义。

理论上来说是如此，不过根据专家所言，光子芯片在制造工艺上要求并没有电子芯片那么严苛，我们不是必须使用EUV光刻机，用当下国内已经相对成熟的原材料以及设备就能够完成光子芯片的生产。也就是说，卡脖子的光刻机设备这一环我们国内也得到了解决。那么按照这个趋势发展下去，光子芯片的代替的规模化将很快到来，今后我们自主芯片走向国际先进水平也非常有望。

对此，你们怎么看呢？欢迎留言评论、点赞和分享！